X熒光光譜儀包括一個(gè)光學(xué)平臺(tái)，可大大減少雜散光并提高機(jī)械和溫度穩(wěn)定性。這個(gè)新的光學(xué)平臺(tái)具有雙內(nèi)置模式消除器和多級(jí)復(fù)合拋物面反射鏡，因此雜散光減少至0.04％，是標(biāo)準(zhǔn)光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光之外，這種新的光學(xué)平臺(tái)還將光譜儀的機(jī)械強(qiáng)度提高了10倍以上，從而使其對(duì)機(jī)械變形和溫度變化的敏感性降低。

 

　　X熒光光譜儀的低雜散光特性使其特別適合需要測(cè)量高吸光度的應(yīng)用，例如高化學(xué)濃度，高光密度光學(xué)組件和長(zhǎng)光程測(cè)量。這種新型的光學(xué)平臺(tái)和光譜儀既適用于OEM應(yīng)用又適用于單儀器應(yīng)用。該儀器具有較低的雜散光（400nm下為0.015％）效果，并且在可見光范圍（360-825nm）內(nèi)具有良好的顏色測(cè)量效果，從而提高了低照度下測(cè)量的靈敏度和處理效果。

 

　　1、具有良好的熱穩(wěn)定性，其性能可與科研級(jí)光譜儀相媲美，可以選擇以滿足各種應(yīng)用挑戰(zhàn)。

 

　　2、使用變節(jié)距凹面光柵。這種設(shè)計(jì)使光譜系統(tǒng)更加有效。中心光柵線密度為550（+/-2）標(biāo)線/mm，標(biāo)稱火焰波長(zhǎng)為400nm。

 

　　3、配備的凹面光柵非常有助于提高其熱穩(wěn)定性。在較寬的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量。結(jié)果，幾乎沒有波長(zhǎng)漂移，并且峰形具有良好的保留效果。因此，在要求低雜散光和熱穩(wěn)定性的精密測(cè)量，熒光測(cè)量或吸光度測(cè)量中。

 

　　4、該儀器測(cè)量能力適用于要求寬測(cè)量范圍，低雜散光，高處理效率和良好熱穩(wěn)定性的各種應(yīng)用：

 

　　（1）大氣中的痕量氣體成分。

 

　　（2）光學(xué)致密物質(zhì)溶液的吸光度。

 

　　（3）LED/激光和其他光源的精密測(cè)量。

 

　　（4）組織醫(yī)學(xué)輻射和生物介質(zhì)的測(cè)量。

 

　　（5）固體表面熒光的測(cè)量溶液和粉末中的反向散射/熒光溶液。